• 四氧化三鈷/納米氧化鈷 [1308-06-1]

  • 英文名:Cobalt(II,III)oxide
  • 別名:氧化鈷(II,III),,一氧化鈷合三氧化二鈷
  • CAS號:1308-06-1 分子式:CO3O4 分子量:240.80
P105807-100g 四氧化三鈷/納米氧化鈷 [1308-06-1] 30nm 球形99.5% 100g 750.00 促銷價:525.00
P105806-25g 四氧化三鈷/納米氧化鈷 [1308-06-1] 30nm 球形99.5% 25g 270.00 促銷價:189.00
P105809-500g 四氧化三鈷/納米氧化鈷 [1308-06-1] 99.9% 500g 525.00 促銷價:367.50
P105808-100g 四氧化三鈷/納米氧化鈷 [1308-06-1] 99.9% 100g 135.00
P105802-5g 四氧化三鈷/納米氧化鈷 [1308-06-1] 99.99% 5g 91.00 促銷價:63.70
P105809-500g 四氧化三鈷/納米氧化鈷 [1308-06-1] AR 500g 414.00
P105803-100g 四氧化三鈷/納米氧化鈷 [1308-06-1] AR 100g 85.00
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化學性質(zhì)

黑色或灰色結(jié)晶。能吸收水分而成水合物,但無固定組成。易被碳、一氧化碳或氫還原成鈷。900℃以上時失去氧成為一氧化鈷,在較低溫時能吸收氧,結(jié)晶的結(jié)構(gòu)不變。溶于酸和堿,幾乎不溶于水。 密度:6.11 熔點:895 °C

質(zhì)量標準

  

項目                              化學純  
                                   (CP)
含量(以Co計)                    72.0~73.5%  
堿金屬及堿土金屬                  ≤0.6%  
硫化合物                          ≤0.1%  
鎳                                ≤0.2%  
鐵                                ≤0.04%  
重金屬                            ≤0.08%  


99.9% metals basis:


外觀Appearance                          Black or Dark Grey
Powder and/or Chunks
X-射線衍射分析X-Ray Diffraction         Conforms to Structure
純度Purity                              ≥99.9% Based on Trace Metals Impurities of ICP
Complexometric EDTA (% Co)              72.0 - 74.0 %  
ICP:                                    Confirms Cobalt Component Confirmed
痕量金屬分析total metallic impurities   ≤1000ppm by ICP Atomic emission
            

99.99% metals basis:


外觀Appearance                          Black or Dark Grey
Powder and/or Chunks
X-射線衍射分析X-Ray Diffraction         Conforms to Structure
純度Purity                              ≥99.99% Based on Trace Metals Impurities of ICP
Complexometric EDTA (% Co)              72.0 - 74.0 %  
ICP:                                    Confirms Cobalt Component Confirmed
痕量金屬分析total metallic impurities   ≤100ppm by ICP Atomic emission


30nm 球形,99.5%
外觀Appearance                           Black powder
X射線衍射X-Ray Diffraction               Conforms to Structure
EDTA滴定Complexometric EDTA (% Co)       71.6 - 75.2 %
粒徑Particle Size                        ≤30 nm
痕量金屬Trace Metal Analysis             ≤5000 ppm
純度Purity(Based on Trace Metals of ICP) ≥99.5 %

  

危險性質(zhì)

  

用途及存儲

主要用于電池材料、磁性材料、熱敏電阻等; 也可用作催化劑機制作琺瑯等

  密封干燥保存。