• 二氧化碲 [7446-07-3]

  • 英文名:Tellurium dioxide
  • 別名:氧化碲(IV),亞碲酐
  • CAS號:7446-07-3 分子式:TEO2 分子量:159.60
P56661-500g 二氧化碲 [7446-07-3] 99.99% metals basis 500g 1258.00 促銷價:792.54
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P56667-25g 二氧化碲 [7446-07-3] 99.99% metals basis 25g 163.00 促銷價:102.69
P56662-5g 二氧化碲 [7446-07-3] 99.99% metals basis 5g 75.00 促銷價:47.25
P56668-250g 二氧化碲 [7446-07-3] 99.999% metals basis 250g 1971.00 促銷價:1419.12
P56666-50g 二氧化碲 [7446-07-3] 99.999% metals basis 50g 514.00 促銷價:375.22
P56665-10g 二氧化碲 [7446-07-3] 99.999% metals basis 10g 200.00 促銷價:144.00
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化學性質(zhì)

白色四方或斜方結(jié)晶。加熱變成黃色,熔融呈暗黃紅。溶于氫氧化鈉溶液和鹽酸,并形成復鹽。幾乎不溶于氨水,水中溶解度1:150000。相對密度5.75(四方)、6.04(斜方)。450℃開始升華。有毒。 熔點: 733℃ 沸點: 1245℃ 密度: 6.0635

質(zhì)量標準

  

99.999% metals basis:


外觀Appearance                          White Powder or Crystalline Powder
X-射線衍射X-Ray Diffraction             Conforms to Structure
純度Purity                              ≥99.999% Based on Trace Metals Impurities
Te Gravimetric Analysis                 77.5- 82.5 %
ICP Major Analysis                      Confirmed Confirms Te Component
痕量金屬雜質(zhì)total metallic impurities   ≤20ppm by ICP Atomic emission


99.99% metals basis:


外觀Appearance                          White Powder or Crystalline Powder
X-射線衍射X-Ray Diffraction             Conforms to Structure
純度Purity                              ≥99.99% Based on Trace Metals Impurities
ICP Major Analysis                      Confirms Hafnium component
痕量金屬雜質(zhì)total metallic impurities   ≤200ppm by ICP Atomic emission

  

危險性質(zhì)

聯(lián)合國編號 3284
Risk:  
Safety :  S24/25- 
Hazard :

  

用途及存儲

制備亞碲酸鹽。發(fā)射光譜分析。電子元件材料。防腐劑。
二氧化碲是碲的氧化物,由碲在空氣中燃燒或被熱硝酸氧化而成。碲和它的化合物是電子工業(yè)中半導體的材料。另外,還可以作電鍍液中的光亮劑、石油裂化的催化劑、陶瓷和玻璃的著色劑。它添加到鋼材中能增加延性。添加到鉛中以增加強度和耐腐蝕性,它還是橡膠的硫化劑。還是制造光敏電阻、光電池的材料。

  密封干燥保存。